Компания ASML является важным игроком в мире полупроводников, хотя её имя не известно широкой аудитории. Тем не менее, её литографические машины необходимы для производства современных чипов. Однако на горизонте появилась новая компания, способная бросить вызов её монополии. Американский стартап Substrate намерен создать литографические установки, работающие на принципах, отличных от технологий ASML. Вместо экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения, Substrate собирается использовать коротковолновое рентгеновское излучение, получаемое с помощью ускорителей частиц. Стартап уже привлёк 100 миллионов долларов от инвесторов, включая Founders Fund, и достиг рыночной оценки в 1 миллиард долларов. По утверждению Substrate, их инновационная технология позволит значительно снизить затраты на литографию по сравнению с EUV-оборудованием ASML, обеспечивая при этом более надежную печать.